|
|
13.МБ.247. Новый ускорительный комплекс для облучения полимерных пленок
Тычков Ю.И., Смольков А.В., Денисов Ю.Н., Доля С.Н. Всероссийская научная конференция "Мембраны – 2001", Москва, 2–5 окт., 2001: Программа. Тезисы докладов. М.: Б. и. 2001, с. 43. Рус. Обсуждены устр-во и основные узлы изохронного циклотрона "ЦИТРЕК", предназначенного для произ-ва трековых МБ (ТМ). Проектная произ-сть комплекса составляет до 2·106 м2 облученной ПЛ в год. Энергия ускоренных ионов Kr+17 или Ar+8, равная 2.4 МэВ/а.е.м., с одной стороны достаточна для прохождения их через полимерную ПЛ толщиной до 25 мкм, с др. стороны она ниже порога ядерных р-ций, т. е. этот ускоритель не будет подлежать радиац. контролю в органах Госсанэпиднадзора. Инжекция ионов в ускоритель осуществляется из плазмы с нагревом электронов на циклотронном резонансе – т. н. ЭЦР источник. Спиральный инфлектор переводит заряженные частицы из вертикальной плоскости в горизонтальную плоскость собственно циклотрона, где и происходит ускорение по классич. циклотронному принципу. Система вывода состоит из двух электростатич. дефлекторов и ферромагнитного канала; расчетная эффективность вывода достигает 70%. Установленный в тракте транспортировки сканирующий магнит позволяет получать размах пучка ионов в горизонтальной плоскости до 600 мм, частота сканирования –50–200 Гц., скорость протяжки ПЛ до 1,0 м/с. При интенсивности пучка ионов 1 мкА плотность треков в ТМ может достигать 109 см–2. Облучение ПЛ осуществляется под тремя фиксир. углами: 0 и ±30 градусов, что, как известно, резко снижает вероятность образования двойных и тройных наложений пор, т. е. снижает колич. дефектов в ТМ и позволяет иметь узкое распределение диаметров пор. Россия, Компания "ТРЕКНОР ТЕХНОЛОДЖИ", Дубна, Моск. обл.
Ключевые слова: акк облучение% акк ионы% н тяжелые ускоренные% к благородные газы% н Kr+17или Ar+8% акк пленки полимерные% акк ускорители заряженных частиц% н циклотроны% н комплекс "ЦИТРЕК"% акк мембраны трековые% н с узким распределением пор по диаметру% н получение% акк циклотронный резонанс% н электронный% н использование для инжекции ионов
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|