ChemNet
 

 

Рис. 1. Технологическая схема производства мембран

I. Подготовка порошка: 1. Вакуумный отжиг порошка SS316L,
T = 780°C, t = 1
час, P = 5 10–5 Па. 2. Смешивание порошка SS316L
с поливиниловым спиртом. 3. Сушка порошка, T = 120–130°C,
t
= 1 час. 4. Просеивание порошка, фракция 160 меш.
5. Усреднение порошка

II. Производство подложки на основе SS3116L: 6. Прокатка
порошка. 7. Спекание подложки в вакуумной печи, T = 1000°C,
t
= 1,5 час, P = 5 10–5 Па. 8. Готовая подложка

III. Производство мембраны: 9. Нанесение подслоя. 10. Нанесение
керамики. 11. Прикатка селективного слоя. 12. Спекание мембраны,
T = 1000°C, t = 1,5 час, P = 5 10–5 Па. 13. Готовый лист мембраны

Copyright ©


Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.

Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору